镀膜方法(镀膜是做什么的)

真空镀膜主要方法 〖壹〗、真空溅射镀膜：利用高能粒子轰击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积到基底表面。真空离子镀膜：在蒸发过程中使物质部分电离，并通过电场作用沉积到基底上。 化学气相沉积（CVD）将含有薄膜组成元素的气态或液态反应剂导入反应室，